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協(xié)鑫集成金剛線(xiàn)高效黑硅PERC疊加MBB量產(chǎn)化效率達(dá)20.8%,功率超過(guò)300W

光伏產(chǎn)業(yè)網(wǎng)訊 發(fā)布日期:2018-04-02
核心提示: 金剛線(xiàn)切割多晶硅片已然成熟,正成為市場(chǎng)主流。近日,在2018PVTD光伏組件發(fā)展趨勢(shì)與可靠性技術(shù)研討會(huì)上,協(xié)鑫集成電池技術(shù)總監(jiān)盛健博士透露其金剛線(xiàn)高效黑硅PERC疊加MBB(多主柵)技術(shù)電池平均效率超過(guò)20.8%,組件主流功率超過(guò)300W。
   金剛線(xiàn)切割多晶硅片已然成熟,正成為市場(chǎng)主流。近日,在2018PVTD光伏組件發(fā)展趨勢(shì)與可靠性技術(shù)研討會(huì)上,協(xié)鑫集成電池技術(shù)總監(jiān)盛健博士透露其金剛線(xiàn)高效黑硅PERC疊加MBB(多主柵)技術(shù)電池平均效率超過(guò)20.8%,組件主流功率超過(guò)300W。
  
  盛健介紹,2017,保利協(xié)鑫已有85%多晶出貨變成金剛線(xiàn)切片。從國(guó)內(nèi)來(lái)看,2018年金剛線(xiàn)切片會(huì)占到90%,砂漿切割在國(guó)內(nèi)會(huì)逐漸消失。金剛線(xiàn)切割多晶硅片成本優(yōu)勢(shì)非常明顯。金剛線(xiàn)切片在制絨上的挑戰(zhàn),行業(yè)已有完善的解決方案,濕法黑硅技術(shù)正在不斷實(shí)現(xiàn)突破,產(chǎn)業(yè)化方案已經(jīng)成熟,成本接近0.1元/片,且將繼續(xù)降低。而成熟的RIE、MCCE黑硅絨面技術(shù)疊加高效背鈍化電池技術(shù),使得多晶PERC效率持續(xù)走高。“金剛線(xiàn)切片+PERC+黑硅”已經(jīng)被公認(rèn)為多晶提質(zhì)降本的主流方向。
  
  從近日完成的領(lǐng)跑基地招標(biāo)情況來(lái)看,雙面發(fā)電組件的市場(chǎng)會(huì)被逐漸打開(kāi),盛健介紹,協(xié)鑫集成雙面多晶PERC電池也走向產(chǎn)業(yè)化,雙面多晶PERC技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)低、兼容性好,組件工藝易匹配。跟單晶相比,多晶雙面率與單晶相差無(wú)幾,可以達(dá)到70%,未來(lái)還是有進(jìn)一步的優(yōu)化空間。多晶PERC與MBB技術(shù)或半片技術(shù)疊加,可讓多晶電池效率進(jìn)一步觸摸新高。
  
  MBB技術(shù)不久之后將成為市場(chǎng)主流已成為業(yè)內(nèi)共識(shí)。除了有效率增益之外,MBB技術(shù)的主要優(yōu)勢(shì)在于,節(jié)省銀漿降低成本,抗隱裂可靠性提升,高顏值又可以兼容半片的技術(shù),未來(lái)還可以其他疊加新技術(shù)。盛健介紹,MBB技術(shù)讓電池效率增加0.2%,正面銀漿單耗下降25%。從焊接工藝來(lái)說(shuō),國(guó)內(nèi)多主柵串焊機(jī)采用傳統(tǒng)焊接法,趨于成熟,制程良率等指標(biāo)接近常規(guī)水平。協(xié)鑫集成MBB組件可靠性測(cè)試及加嚴(yán)測(cè)試功率衰減遠(yuǎn)小于IEC標(biāo)準(zhǔn),傳統(tǒng)焊接方式,可滿(mǎn)足戶(hù)外長(zhǎng)期使用條件,MBB組件對(duì)微小隱裂容忍度提升,小隱裂對(duì)功率輸出影響小。
  
  與此同時(shí),另一股熱潮也正在行業(yè)形成,那就是切半組件技術(shù)。盛健表示,目前激光切半技術(shù)方案,產(chǎn)業(yè)化成熟度高,切半后更低的內(nèi)部電流,降低組件功率損耗,與黑硅PERC疊加應(yīng)用效果較好,另外,切半組件采用分體式接線(xiàn)盒,熱效應(yīng)更低。切半+1500V的系統(tǒng)應(yīng)用,更有助于降低系統(tǒng)損耗,切半組件可以使CTM提升約2%。如果切半技術(shù)與MBB疊加,可以進(jìn)一步提升組件功率。
  
  盛健介紹,協(xié)鑫集成金剛線(xiàn)高效黑硅PERC疊加MBB技術(shù)電池平均效率超過(guò)20.8%,組件CTM大于98%,主流檔位295W以上組件占比大于96%,其中300W以上比例超過(guò)56%。據(jù)了解,整個(gè)行業(yè)多晶PERC發(fā)展比預(yù)測(cè)要慢,主要掣肘來(lái)自行業(yè)對(duì)多晶PERC投資比較少。很多人認(rèn)為多晶PERC的LeTID衰減還未得到解決,所以對(duì)此投資比較謹(jǐn)慎。值得一提的是,協(xié)鑫集成多晶高效PERC的LeTID問(wèn)題已經(jīng)可以被解決,穩(wěn)定后的LeTID衰減可控制在1.5%以?xún)?nèi),適合量產(chǎn)。盛健認(rèn)為,多晶LeTID處理相對(duì)復(fù)雜,但是未來(lái)控制在1%以?xún)?nèi)是有可能的。
  
  “2019年,協(xié)鑫集成將主推雙面產(chǎn)品,屆時(shí)雙面多晶效率會(huì)達(dá)到21.3%,組件功率達(dá)到315W。更高質(zhì)量的硅片通過(guò)先進(jìn)接觸鈍化技術(shù)、MBB、切半等各種高效技術(shù)疊加與優(yōu)化,到2020年我們的產(chǎn)業(yè)化目標(biāo)是多晶效率要達(dá)到21.5%。”盛健介紹,既要提升效率又要降低成本,未來(lái)是一條難走的荊棘之路,但是他相信協(xié)鑫將堅(jiān)持理論研究及實(shí)踐研究并行,在努力與汗水中不斷實(shí)現(xiàn)協(xié)鑫人自己描繪的藍(lán)圖。

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